Гломерулонефрит: локализация отложений иммунных комплексов
Клинические и морфологические проявления болезни в наибольшей степени определяются локализацией отложения иммунных комплексов. Эта локализация, в свою очередь, зависит от следующих факторов: размер, заряд, валентность и концентрация антигена, скорость и прочность его связывания с антителом, концентрация антител, размер иммунных комплексов, скорость их удаления и состояние местной гемодинамики.
Отрицательно заряженные антигены отталкиваются от базальной мембраны, которая тоже заряжена отрицательно, и откладываются на ее внутренней стороне (субэндотелиально) и в мезангии. Положительно заряженные антигены легко проникают в базальную мембрану, откладываясь на ее наружной стороне (субэпителиально) или внутри нее. Субэндотелиальные иммунные комплексы вызывают острую воспалительную реакцию . Это обусловлено тем, что отсюда компоненты комплемента и другие медиаторы воспаления легко проникают в кровоток, привлекая лейкоциты и тромбоциты. Клиническим проявлением этой реакции служит нефритический синдром .
При мезангиальном отложении иммунных комплексов воспалительная реакция слабее. Отчасти это можно объяснить тем, что с мезангием соприкасается не более трети стенки капилляра.
Субэпителиальные иммунные комплексы резко увеличивают проницаемость клубочкового фильтра для белков, что проявляется нефротическим синдромом . Воспалительная реакция при этом умеренная, поскольку иммунные комплексы этой локализации отделены от просвета капилляра базальной мембраной, а ток фильтруемой жидкости не дает медиаторам воспаления достигнуть кровотока.
